PVD покритие

Как се извършва обработката?

Общо казано, това е процес на нанасяне на повърхностен материал в много тънък слой. Съществуват няколко метода за извършване на PVD. Изпарение във вакуум при температури между 150 °C и 500 °C в специална йонна камера. Освободените частици материал за PVD се йонизират и реагират с атмосферата внутри камерата, съставена от инертен газ (обикновено аргон) и реактивен газ (обикновено азот). След това се утаяват върху повърхността на обработвания обект, където формират тънък, равномерен и силно прилепващ слой. Сред другите технологични процедури с постигнат същия резултат са напрашване, депозиция с електронен лъч и пулсова лазерна депозиция. За да се постигне равномерна дебелина на слоя, обработваните обекти се въртят с равномерна скорост около няколко оси.

Най-често използвано PVD покритие

Сред най-често използваните PVD повърхностни покрития са Titanium coating – Tin. Съществуват и няколко други комерсиално използвани варианта TiN, които са разработени през последните десет години. Това е Titanium carbon nitrid – TiN с въглерод, TiCN, също така и Titanium aluminium nitrid – TiN с алуминий, TiAlN или AlTiN, както и комбинация от алуминий и въглерод. Сред другите разпространени PVD повърхностни обработки са CrN coating (на база хромов нитрид), ZrN coating (на база циркониев нитрид) или Alpha™ coating – Tin + ZrN.

Резултат от PVD покритията

Ползата от повърхностните обработки с PVD е значителното подобрение на свойствата на обработвания продукт, като ниско триене, висока твърдост, устойчивост към износване и към висока температура, устойчивост към корозия и към киселини.